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Reinigungsprozess ermöglicht Kosteneinsparung

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[Christina Eifert]

In der Herstellung von Leistungselektronik ermöglicht die optimale Kombination aus Reinigungsanlage und Reinigungschemie einen prozesssicheren und kostensparenden Reinigungsprozess.

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Artikelnummer: DE-2003-05 Kategorien: ,

Beschreibung

[03/2020]

Equipment und Reinigungschemie optimal kombiniert

Ein Elektronik-Spezialist in Durach wollte seinen wasserfreien Reinigungsprozess für elektronische Baugruppen optimieren, da dieser zu zeit- und wartungsintensiv war. Nach der Installation eines neuen Reinigungsprozesses erreichte man zusätzlich auch eine Einsparung der Arbeitszeit. Vor allem die verlängerte Badstandzeit ist ein Indiz für einen kosteneffizienten Prozess.

Autor(en)

Christina Eifert Technology Analyst, ZESTRON EUROPE Christina Eifert ist Diplom-Ingenieurin der Technischen Chemie und seit einigen Jahren bei ZESTRON Europe. Seit kurzem ist sie als Technology Analyst Teil des Academy und Reliability & Surfaces Teams. Zu den Themen Risikobewertung sowie Oberflächen- und Schadensanalyse führt sie Technologie Coachings durch.

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